超滤膜在超纯水制备中的应用

超滤在超纯水制备过程中主要用于去除胶体、微粒、细菌。用于超纯水制备的超滤组件多为中空纤维式，膜渗透流率高达2~4m/d。

　　超纯水是把水中的导电介质几乎完全去除，又把水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水，电阻率达到mω*cm(℃)。许多工业用水要求非常严格，特别是电子工业中，许多地方都要使用超纯水，这对保证产品质量起着重要的作用。

　　在集成电路半导体器件的切片、研磨、外延、扩散和蒸发等工艺过程中，要反复用超纯水清洗，集成电路在很小面积内，有许多电路相邻元件之间只有0.002mm左右的距离，因此清洗用水要求很严格。一般要求无离子、无可溶性有机物、无菌体和无大于0.5μm的粒子。每个集成电路厂，都有一个制造超纯水的中心系统，然后通过分配系统，输送到使用点。

　　

 

　　超滤在超纯水制备过程中主要用于去除胶体、微粒、细菌。用于超纯水制备的超滤组件多为中空纤维式，膜渗透流率高达2~4m/d。超滤膜的应用特性：

　　1、在超滤过程中不会发生任何质的变化，可以在常温下稳定运行。

　　2、超滤分离过程简单，自动化程度高。

　　3、能将不同的分子量物质进行分类处理。

　　4、对水质的适用性强，应用的范围广。

　　超纯水常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模板的制备和硅片氧化用的水汽源等，也作为其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等制作的材料。